中文名称: 单晶硅打孔靶材
发布时间: 2021-04-07 11:46:07
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材质:多晶硅或单晶硅
纯度:5N--6N
表面粗糙度:<Rz 0.8μm
尺寸及公差:根据客户要求定制
硅靶材主要用于平板显示器和微电子领域的溅射靶材。
靶材的主要性能要求
纯度:纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。
密度:为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布:通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。
我们的材料是可靠的,具有竞争力的价格同时保证快速交付