中文名称： 单晶硅打孔靶材
发布时间： 2021-04-07 11:46:07
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材质：多晶硅或单晶硅
纯度：5N--6N
表面粗糙度：<Rz 0.8μm
尺寸及公差：根据客户要求定制
硅靶材主要用于平板显示器和微电子领域的溅射靶材。
靶材的主要性能要求
纯度：纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。
密度：为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布：通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。
我们的材料是可靠的，具有竞争力的价格同时保证快速交付
